Naka-secure ang Micron ng $320 Million sa Japanese Subsidies, Maaaring Magdala ng EUV sa Japan
Dahil naunawaan ang kahalagahan ng lokal na semiconductor supply chain para sa pangmatagalang pag-unlad ng industriya ng microelectronics, sinimulan ng gobyerno ng Japan ang isang programa upang bigyan ng subsidyo ang mga lokal na chipmakers. Sa takong ng $680 milyon na subsidy nito para sa Kioxia at Western Digital noong Hulyo, inihayag ng gobyerno ng Japan ang mga planong suportahan ang mga operasyon ng Micron sa Hiroshima na may ¥46.5 bilyon ($320 milyon). Ang cash infusion na ito ay maaaring makatulong sa Micron na magdala ng matinding ultraviolet (EUV) lithography sa Japan.
Matatanggap ng Micron ang pagpopondo mula sa Ministry of Economy, Trade and Industry ng Japan, ulat ng Bloomberg. Gayunpaman, ang mga kundisyon na dapat matugunan ng Micron upang makuha ang subsidy ay hindi magagamit sa pamamagitan ng website ng ministeryo sa oras ng pagsulat. Ang grant ay makakatulong sa Micron na ‘mass produce cutting-edge memory chips’ sa mga fab nito malapit sa Hiroshima, Japan, na nakuha ng kumpanya noong nakuha nito ang Elpida noong 2013.
(Kredito ng larawan: Micron)
Gumagawa ang Micron ng malaking bahagi ng mga produktong DRAM nito sa site nito malapit sa Hiroshima, Japan, at nagpapatakbo ng mahahalagang operasyon sa R&D sa bansa. Upang panatilihing napapanahon ang mga fab ng DRAM, ang Micron at iba pang mga gumagawa ng memorya ay dapat na patuloy na mag-install ng mga bagong kagamitan upang magpatibay ng mga bagong teknolohiya sa pagmamanupaktura at dagdagan ang kapasidad, na nangangailangan ng mabigat na pamumuhunan. Dahil ang mga paggasta ng kapital (CapEx) ay tumataas nang husto sa industriya ng semiconductor sa mga araw na ito, ang mga chipmaker tulad ng Micron ay naghahanap ng suporta at mga insentibo mula sa mga pamahalaan. Pinaplano nila ang kanilang sariling paggasta batay sa kung ano ang maaari nilang matanggap sa mga gawad at iba’t ibang pang-engganyo.
Ang $320 milyon ay napakalaking pera, bagaman ito ay nananatiling makikita kung magkano ang perang handang gastusin ng Micron sa Hiroshima site expansion. Kahapon lang, sinabi ng kumpanya na binawasan nito ang piskal na taon nitong 2023 CapEx na badyet ng 30% year-over-year sa humigit-kumulang $8 bilyon. Para bawasan ang mga capital expenditures nito, pinutol ng kumpanya ang wafer fab equipment (WFE) CapEx nito ng halos 50% YoY, na magreresulta sa mas mabagal na ramp ng 1ß DRAM nito at 232-layer 3D NAND kumpara sa mga naunang inaasahan dahil nangangailangan ang ramp ng mas bagong mga kasangkapan sa fabs. Samantala, “higit sa doble” ng kumpanya ang pagtatayo nito ng CapEx (ibig sabihin, pagbuo ng mga bagong fab shell) taon-taon upang matugunan ang pangangailangan para sa ikalawang kalahati ng dekada na ito at pinanatili ang mga plano upang makakuha ng EUV lithography system upang suportahan ang 1γ nito (1- gamma) pagbuo ng node.
(Kredito ng larawan: Micron)
Ang $320 milyon na subsidy mula sa gobyerno ng Japan ay maaaring gamitin upang palakasin ang WFE CapEx na badyet ng site ng Hiroshima para pataasin ang 1ß DRAM node sa Japan sa susunod na taon o kumuha ng mga bagong tool sa EUV at palakasin ang EUV-enabled na 1γ DRAM fabrication technology sa Japan minsan sa 2024. Tandaan na maraming bagay para sa proseso ng pagmamanupaktura ng 1ß DRAM ang dapat ayusin sa ngayon (ibig sabihin, kung saan pupunta ang mga tool), ang grant ay maaaring talagang gamitin para sa susunod na round ng pagpapalawak ng site ng Micron sa Hiroshima, ang isa na kinasasangkutan ng mga EUV scanner ng ASML at ang 1γ DRAM ng kumpanya.
Sa ngayon, mas marami kaming tanong kaysa sa mga sagot, ngunit mukhang ang subsidy mula sa gobyerno ng Japan ay dumarating sa panahon na pinapabagal ng Micron ang pag-upgrade ng mga kasalukuyang fab nito sa pamamagitan ng pagbabawas ng WFE CapEx nito.
